一、產品功能和用途：

       型號：GC-RZK-800

　　真空熱處理快淬爐系統屬于高壓氣猝爐，是一種電阻加熱氣冷爐，采用真空輻射方式加熱，氣體快速冷卻，氣體冷卻壓力可調且*壓力大于 6bar(絕壓)的熱處理設備，該設備可用于淬火、退火、回火、固溶、時效等真空熱處理工藝。真空熱處理快率爐由真空室、抽真空系統、壓力測量裝置、加熱風、保溫隔熱屏、高壓氣淬系統、水冷系統、控制系統、電氣系統及試驗臺架組成

　　1、 為熱處理作業提供高真空環境，滿足高真空熱處理的真空度需求，真空腔室為不銹鋼爐膛，配備干泵、分子泵組成的真空泵組，禁止使用油泵。

　　2、為熱處理作業提供高溫烘烤環境，滿足高真熱處理的溫度需求，配備多層金屬熱屏蔽，帶狀加熱絲。

　　3、 設備可通過程序自動升溫，可控制升溫速率、可設置分段加熱，并具備通過真空度檢測反饋控制加熱升溫的功能。

　　4、配備冷卻水機，對真空法蘭、爐膛外壁進行冷卻。

　　5、配備可拆換樣品托盤，材質為鉬或陶瓷。

　　6、具備小型化特點，占地面積小，搬運靈活。

　　7、配備充氣口可充入保護氣體

　　8、干泵配備減震裝置，降低運行的振動

      二：主要技術參數

　　真空

　　1、工作真空度：5.0×10-2Pa(熱態)，冷態極限真出≤1.0×10-2Pa.在冷態、空載狀態下系統從大氣開始抽氣，30分鐘可達到2 Pa.60分鐘可達到 5.0×10-1Pa， 壓升率不大于 1Pa/h

　　2、*工作溫度： 1200℃，保量過程中溫度波動小于±2℃。

　　3、 室溫極限真空度：2.0×10-4Pa(室溫)

　　4、抽速：從大氣30分達到0.1Pa，60分達到5.0×10-4Pa。

　　5、容量：可以容納不小于50Kg樣品重量。

　　6、壓力測量范圍：1.0×10-5Pa至3.0×105Pa。

　　2.2.2：加熱

　　1、*加熱溫度：1200℃

　　2、 *升溫速率： 15℃/min

　　3、 *升溫速率： 0.1℃/min

　　4、*升溫程序段數量： 20

　　5、控溫精度：±2℃

　　6、溫度過沖：<10℃

　　7、外壁溫度<50℃(開水機時)

　　8、空爐、密閉狀態下，從1100℃冷卻至 200℃用時不超過5 min:

　　9、具備冷卻水溫、水壓報警功能

　　其它要求

　　1、 外型尺寸：整體設備小于2.5*1.5*1.8米，設備可設計成可拆分結構以滿足此要求

　　2、有效實用尺寸：300mm×300mm×400mm

　　3、放氣閥：1×KF16

　　4、噪聲：滿足工業場所噪聲標準

　　結構與安裝要求

　　真空熱處理設備獨立放置，應有清晰的標識，便于指導人工連接。

　　接口要求

　　采用標準真空密封法蘭。

　　產品涂覆、標識要求

　　應在該設備外醒目位置上安裝銘牌，銘牌中有產品名稱、型號、出廠編號、出廠日期和承制單位等內容。

　　本臺真空熱處理設備主要分為真空系統、加熱系統、電控及冷卻系統四部分組。

　　本設備為高真空鉬膽加熱距式前開門設備，真空容器主要由優制S30408不銹鋼制造，為了防止高溫對人體燙傷所以容器做成了兩層，中間一層用來通水冷卻。所有抽氣設備裝在儀器內，真空及加熱系統在控制柜上面的平板電腦上操作，本系統將真空加熱合為一體，提高了系統的集成性與穩定性，操作使用簡單方便，同時系統還具有一定的擴展性和冗余性便于后續功能擴展的是真空度和溫度設備控制的核心。

　　將被試驗件放入真空腔內，再將真空腔爐門關上(加熱為內鉬膽加熱式)，就可開始工作。將真空抽至工藝規定的指標后，可加熱，并開啟高真空內的加熱系統，可使器件內管壁氣體分子及高真空管道內壁上氣體分子脫附，并通過真空系統將其抽走。經過一定時間后，使器件內真空度達到工藝所需的真空度要求，就可進行陰極分解或器件的熱處理工藝，完成真空工藝流程。

　　（其他詳細資料請致電我司獲取!）